(独)工業所有権情報・研修館(INPIT)は、平成27年10月1日よりイメージマッチ
ング技術を利用した画像意匠公報検索支援ツール(Graphic Image Park)のサービス
提供を開始しました。
無料で利用できます。
詳しくはこちらをご覧ください。
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特許・実用新案公報は、これまでの毎週水曜日に発行されてきましたが、これに加え、必要に応じて火曜日にも発行されることになりました。
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平成26年特許法等改正法が平成27年4月1日に施行されました。
主な改正点
・特許異議申立制度
特許権の早期安定化を可能とすべく、特許異議申立制度が開始されました。
・新しいタイプの商標
新しいタイプの商標(動き商標、ホログラム商標、色彩のみからなる商標、音商標、位置商標)を我が国における保護対象に追加し、出願の受付を開始しました。
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平成27年3月13日に閣議決定された、「特許法等の一部を改正する法律案」は、
平成27年7月3日に可決・成立し、7月10日に法律第55号として公布されており
ます。
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「特許庁」のサイトに「日中韓連携知的財産シンポジウム」の開催案内が掲載されました。
以下、「特許庁」のサイトより
日中韓連携知的財産シンポジウムは、相互に学術協力協定を締結している日本知財学会、中国知識産権研究会、韓国知識財産学会の3学会が中心となって開催されているシンポジウムであり、各国の知財学会関係者、政府関係者等が知財に関するテーマについて議論や意見交換を行う場として、平成24年から開催国を交代しながら毎年1回開催されています。
本年は、我が国において「世界に発信する東アジアの知財制度と戦略」をテーマとして、日本国特許庁等も主催に加わり、日中韓の各国知財庁の最近の取組に関する講演等のほか、知財司法、商標及び営業秘密を論点とするパネルディスカッションを行います。
【日 時】平成27年12月4日(金)13:30~17:50、5日(土)10:00~12:00
【会 場】東京大学伊藤謝恩ホール(東京都文京区本郷7-3-1)
【定 員】350名程度
【参加費】無料
申込方法等、詳しくは特許庁サイト(こちら)をご覧ください。
公式サイトは、こちらをご覧ください。