意匠審査基準のうち、「部分意匠の図面提出要件の見直し」と「画面デザインの登録要件の明確化」に関する意匠審査基準を改定しました。
これらの改訂意匠審査基準は平成23年8月1日以降の意匠登録出願に適用されます。

【改訂のポイント】

○「部分意匠の図面提出要件の見直し」(意匠審査基準 第2部第1章、第7部第1章、第7部第4章)

  • 部分意匠の意匠登録出願について、意匠登録を受けようとする部分以外のみを表す図のうち、一部の図について提出の省略を可能とします。

○「画面デザインの登録要件の明確化」(意匠審査基準 第7部第4章)

  • 画面デザインのうち物品の機能や状態を表示する画像について、意匠審査基準中に登録要件を明記しました。
  • これまで一つの画像を一つの意匠と認定していた考え方から、アニメーション的に変化する画像についても、形態変化を伴う一つの意匠と認定する考え方へ変更します。

改訂に関する詳しい内容については、特許庁ホームページでご確認下さい。

EPOとUSPTO、共通化した分類システムの構築のための共同作業を開始

EPOとUSPTO(米国特許商標庁)は、新たな共同特許分類を共同で構築することについて合意しました。

2012年末に導入が予定されているこの新たな分類システムは、EPOとUSPTOが共同で構築するものです。この「共同特許分類(CPC:Cooperative Patent Classification))は、欧州特許分類(ECLA)をベースとし、そこにUSPTOで使われている分類の最良の部分を盛り込むかたちで作られます。IPCよりも詳細な分類として、特許検索もさらに高精度で行えるようになります。

続きを読む...

特許法等の一部改正についての公布

特許法等の一部を改正する法律が可決・成立しました。
今回の改正では、

  • 通常実施権等の対抗制度の見直し
  • 中小企業向支援として、特許料の減免などについて、要件の緩和、期間の延長
  • 新規性喪失の例外規定の見直し

などが盛り込まれています。

詳しくはこちらをご覧ください。