平成29年（2017年）1月1日から、国際出願関係手数料が改正されます。
平成29年1月以降に国際出願関係手数料の納付をする場合は、各種手数料の額及び適用関係に御注意をお願いします。
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日中韓特許庁シンポジウム開催について
日本国特許庁、韓国特許庁、中国国家知識産権局は、この度、日中韓における行政及び司法による知的財産保護の最新動向をテーマに、「日中韓特許庁シンポジウム」を開催いたします。
皆様のご参加をお待ちしています。
日時 平成28年12月9日（金）13:30～17:00 ※受付開始13：00～
場所 ヒルトン小田原リゾート＆スパ「Hilton Arena」
〒250-0024 神奈川県小田原市根府川583-1
※ＪＲ東海道線「小田原駅」から専用シャトルバスを運行いたします。
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J-PlatPatの中国特許和文抄録の一部変更について
J-PlatPatの「特許・実用新案テキスト検索」および「外国公報DB」では、「中国公開特許和文抄録」を対象に蓄積していましたが、収録対象が変更されました。
これにより、一部の分野では抄録だけでなく公報全文の日本語翻訳を対象にした検索と表示ができるようになりました。
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外国産業財産権制度説明会（インド）について
インドの産業財産権制度と模倣対策について、我が国の中小・ベンチャー企業にとって着目すべき国の制度や話題を取り上げたセミナーが開催されます。
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EPOのPatent RegisterのFedereted Registerにスペインが加わりました
EPOのEuropean Patent RegisterのFedereted Registerにスペインが加わりました。
これにより、登録後にスペインに移行したEP特許のスペインへ移行後の国内状況が確認できます。
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