日本国特許庁、韓国特許庁、中国国家知識産権局は、この度、日中韓における行政及び司法による知的財産保護の最新動向をテーマに、「日中韓特許庁シンポジウム」を開催いたします。
皆様のご参加をお待ちしています。
日時 平成28年12月9日（金）13:30～17:00 ※受付開始13：00～
場所 ヒルトン小田原リゾート＆スパ「Hilton Arena」
〒250-0024 神奈川県小田原市根府川583-1
※ＪＲ東海道線「小田原駅」から専用シャトルバスを運行いたします。
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インドの産業財産権制度と模倣対策について、我が国の中小・ベンチャー企業にとって着目すべき国の制度や話題を取り上げたセミナーが開催されます。
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EPOのEuropean Patent RegisterのFedereted Registerにスペインが加わりました。
これにより、登録後にスペインに移行したEP特許のスペインへ移行後の国内状況が確認できます。
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J-PlatPatの「特許・実用新案テキスト検索」および「外国公報DB」では、「中国公開特許和文抄録」を対象に蓄積していましたが、収録対象が変更されました。
これにより、一部の分野では抄録だけでなく公報全文の日本語翻訳を対象にした検索と表示ができるようになりました。
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知的財産権の業務に携わる実務者の方を対象に、知的財産権制度を円滑に利用していただくため、実務上必要な知識の習得を目的とした知的財産権制度の説明会を全国の主要都市で開催します。
特許・意匠・商標審査の運用基準や、企業活動をグローバルに展開していく上で重要となる国際出願の手続き等について、より実務に役立つ内容を特許庁職員等が分かりやすく解説します。
参加費及びテキストは無料ですので、この機会に是非ご参加下さい。
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